半導體芯片用超純水系統
【南京純水設備】半導體芯片用超純水系統
芯片超純水系統是為半導體制造提供高純度水的設備,最新工藝主要包括預處理、反滲透、去離子處理、拋光處理等步驟,確保水質達到18.2MΩ*cm以上的超純水標準,以滿足精密科學實驗和工業應用的需求。
1、預處理階段
多介質過濾:去除大顆粒懸浮物。
活性炭過濾:吸附有機物和余氯,防止對反滲透膜的損害。
軟化處理:去除鈣鎂離子,防止膜元件結垢。
2、反滲透階段
雙級反滲透:有效去除溶解鹽和有機物,確保水質達到EDI模塊進水標準。
3、去離子處理階段
EDI技術:無須酸堿再生,環保且連續穩定產水。
混床離子交換:進一步去除離子,提高水質純度。
4、拋光處理階段
紫外線氧化:分解有機物,降低TOC含量。
5、配送與循環
采用閉環循環系統,防止水質污染,確保超純水穩定供應。
6、廢水處理與回用
對半導體制造產生的廢水進行多級處理,實現高效、經濟的處理,提高水資源利用率。
7、系統優勢
采用EDI技術,無須酸堿再生,保護環境。
產水過程穩定連續,無復雜操作程序,降低安裝和維護要求。
配備智能監控系統,實時監控設備運行狀態和水質參數,實現遠程管理。
超純水系統為芯片生產提供必要的水質保障,影響芯片良率和性能,是半導體制造不可或缺的環節。南京反滲透純水設備 南京EDI超純水處理設備 南京工業純水設備 南京實驗室超純水設備 南京醫藥純化水設備 南京去離子水處理設備
- 上一篇:沒有啦
- 下一篇:250L/H超聲波清洗用超純水設備方案 2025/6/13